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レーザーテックハイライト

レーザーテックハイライト

EUVマスク関連装置のご紹介

EUV(Extreme Ultraviolet)リソグラフィ とは、極端紫外線といわれる非常に短い波長(13.5nm)の光を用いる リソグラフィ技術で、従来のArF エキシマレーザー光(波長193nm)を用いたリソグラフィに比べ、より微細なパターンを形成できます。

半導体デバイスは、スマートフォンやパソコンなどの身近にある電子機器に使用されています。さらなる小型化・高性能化のため微細化が進んでおり、大手デバイスメーカー各社は2019年からEUVリソグラフィによる半導体の量産を開始しました。EUVリソグラフィは、今後普及が進むとされる5G(第5世代移動通信システム)、AI(人工知能)、ADAS(先進運転支援システム)などに不可欠な技術で、最先端の製造工程での採用が拡大しています。

当社では、EUVリソグラフィに対応した高性能な検査装置の需要をいち早く見込み、長年にわたってEUVマスク欠陥検査に関する基盤技術の確立に努めてきました。現在すでに顧客のご要望にお応えした4製品をラインアップし、積極的な営業活動を推進しています。

※リソグラフィ:ウェハ上にフォトレジストと呼ばれる光に反応する材料を塗布し、露光装置で光を照射し、薬品に光が当たった部分を除去することで、パターン(例えば線のような形状)を形成する技術。パターンが描かれている複数のフォトマスクが露光装置で使用され、半導体の回路が形成される。

EUVリソグラフィ

※ペリクル:マスクパターン面への異物付着を防ぐための保護膜

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